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創維半導體總部大廈

2019-12-15 106 作者:体育在线365

創維半導體設計大廈為深圳特區成立30周年十大產業項目之一,于2010年8月24日奠基,建設周期3年。大廈位于深圳市高新技術園南區核心區域,占地面積17025.5平方米,總建設面積124533.62平方米,計容建筑面積為84931.04平方米,建筑樓高99.8...

創維半導體設計大廈為深圳特區成立30周年十大產業項目之一,于2010年8月24日奠基,建設周期3年。大廈位于深圳市高新技術園南區核心區域,占地面積17025.5平方米,總建設面積124533.62平方米,計容建筑面積為84931.04平方米,建筑樓高99.8米,附近公交站點約13個,餐廳約33家,銀行26家。